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现代物理知识  1996, Vol. 8 Issue (05): 31-34    DOI:
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离子注入物理在微电子技术中的应用
张延曹, 袁玄义, 王永昌
空军导弹学院基础部,陕西713800
 全文: PDF (381 KB)   HTML (1 KB)   输出: BibTeX | EndNote (RIS)      背景资料
摘要 微电子技术是在半导体芯片上采用微米或亚微米级加工工艺制造微小型电子元器件和微型化电路的新兴技术。这一技术是现代高科技腾飞的翅膀,是现代信息技术的基石,是世界新技术革命的先导。60年代以来,微电子技术的发展突飞猛进。
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张延曹
袁玄义
王永昌
关键词离子注入   微电子技术   半导体器件   化合物半导体材料   扩散工艺   MOSFET   阈值电压   二极管   微波晶体管   电子迁移率     
Abstract
Key words:   
收稿日期: 1995-03-10;
引用本文:   
张延曹,袁玄义,王永昌. 离子注入物理在微电子技术中的应用[J]. 现代物理知识, 1996, 8(05): 31-34.
$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN. [J]. Modern Physics, 1996, 8(05): 31-34.
 
没有本文参考文献
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