真空镀膜技术的应用及教学实验

全文: PDF (325 KB) HTML (1 KB) 输出: BibTeX | EndNote (RIS) 背景资料

摘要真空镀膜技术广泛应用于现代科学技术的很多领域。起初最主要用于光学薄膜。最典型的方法是采用真空蒸发法将成膜材料按设计要求淀积在工件表面从而获得所需的反射、增透、截止、带通、偏振等效果。

关键词：膜技术的应用真空镀膜机光标检流计化学气相沉积干涉滤光片光学薄膜膜系设计电子束加热蒸发真空热蒸发法棱镜单色仪

Abstract：

Key words：

收稿日期: 1995-01-18;

引用本文:

林道方,邓加军. 真空镀膜技术的应用及教学实验[J]. 现代物理知识, 1996, 8(01): 29-34.

$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN. [J]. Modern Physics, 1996, 8(01): 29-34.

没有本文参考文献

[1]	林秀华. 崛起的新一代固体光源LED[J]. 现代物理知识, 2004, 16(06): 47-48.
[2]	梅云霞,唐晓亮. 低温等离子体及其在材料表面改性中的应用[J]. 现代物理知识, 2004, 16(03): 40-43.
[3]	刘宇虹,田勇军. 迅速发展中的电子及光电子材料[J]. 现代物理知识, 2001, 13(01): 38-39.
[4]	《现代物理知识》编辑部. 《现代物理知识》1996年1-5期要目[J]. 现代物理知识, 1996, 8(06): 47-47.